三氟化氮（NF3）
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詳情介紹:
| 三氟化氮（NF3） | |
| 化學式 | NF3 |
| 中文名稱 | 三氟化氮 |
| 英文名稱 | Nitrogen trifluoride |
| CAS No. | 7783-54-2 |
| 分子量 | 71.002 |
| 充裝系數(shù) | 0.55kg/L(氣瓶公稱工作壓為12.5MPa時) |
| 應用 | 主要用于化學氣相淀積（CVD）裝置的清洗。三氟化氮可以單獨或與其它氣體組合，用作等離子體工藝的蝕刻氣體，例如，NF3、NF3/Ar、NF3/He用于硅化合物MoSi2的蝕刻；NF3/CCl4、NF3/HCl既用于MoSi2的蝕刻，也用于NbSi2的蝕刻。 |
三氟化氮在常溫下是一種無色、無臭、性質穩(wěn)定的氣體，是一種強氧化劑。三氟化氮在微電子工業(yè)中作為一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體，在離子蝕刻時裂解為活性氟離子，這些氟離子對硅和鎢化合物，高純三氟化氮具有優(yōu)異的蝕刻速率和選擇性（對氧化硅和硅），它在蝕刻時，在蝕刻物表面不留任何殘留物，是非常良好的清洗劑，同時在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的運用。
